Open Positions
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¡¤ Position | Àåºñ ¿£Áö´Ï¾î | ||
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¡¤ Classification | »ý»ê/Ç°Áú/°øÁ¤ | ¡¤ Status | |
Àåºñ ¿£Áö´Ï¾î ´ã´ç¾÷¹« ¹ÝµµÃ¼ Diffusion furance Àåºñ°ü¸® (Diffusion process: Wet & Dry
oxidation, Anneal) L Àåºñ Set-up ¹×
À¯Áö°ü¸® L Àåºñ °³Á¶ ¹× °³¼± L Àåºñ ¿¹¹æÁ¤ºñ »ý»ê ¹× Ç°Áú À¯Áö°ü¸® ÀÀ½ÃÀÚ°Ý (Diffusion oxidation/anneal) Àåºñ ¿£Áö´Ï¾î
°æ·Â 5³âÀÌ»ó ³ôÀº ºÐ¼®·ÂÀ» ÅëÇÑ ¹®Á¦ ÇØ°á ¹× ¿øÀÎ ºÐ¼® ´É·Â ¸¶ÄÉÆà ¹× ¿µ¾÷ÆÀ µ¿·áµé°ú ¾÷¹« Çù¾÷ ¹× ¿øÈ°ÇÑ Ä¿¹Â´ÏÄÉÀÌ¼Ç ´É·Â ÁÖµµÀûÀ¸·Î ÀÚ½ÅÀÇ ÀÏÀ» ã¾Æ ¹®Á¦¸¦ ÇØ°áÇÏ°í °³¼±ÇÏ´Â ´É·Â ÃÖ°í ¼öÁØÀÇ Åõ¸í¼º°ú µµ´ö¼º Diffusion Àåºñ (KE,
TEL) & À¯Æ¿¸®Æ¼ ¿î¿µ °æÇèÀÚ ¿ì´ë PECVD, LP-NIT, POLY Àåºñ °ü¸® °æÇèÀÚ ¿ì´ë ¹ÝµµÃ¼ Àü°øÁ¤ Àåºñȸ»ç °æÇèÀÚ ¿ì´ë Á¾ÇչݵµÃ¼ (»ï¼º, ÇÏÀ̴нº, DB, ¸Å±×³ªÄ¨µî) Çʵå Àåºñ°ü¸® °æÇèÀÚ ¿ì´ë Àåºñ °³Á¶ ¹× °³¼± °æÇèÀÚ ¿ì´ë ¿µ¾îÈ¸È °¡´ÉÀÚ ¿ì´ë |
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